运维管理之主机化学清洗：
络和清洗是整个化学清洗过程的关键步骤。由络合剂、渗透剂、悬浮剂和活性缓冲剂构成一种特殊条件下的物料清洗剂。该清洗剂溶解污垢的能力强，与物料作用时间短，对设备无腐蚀，操作方便而且除垢率可达95％以上。
在络和清洗过程中，应投加缓蚀剂、还原剂、助溶剂、铜离子剂等助剂。并在清洗时挂入与清洗设备材质相同或相似的标准腐蚀指示片和监视管段，以便随时监测。
系统恢复循环后，保持液位循环，当无误时加入缓蚀剂，等缓蚀剂循环均匀后缓慢加入酸洗药剂和其它助剂。
在络和清洗中，应定时取样分析清洗液浓度、铁离子浓度及定期进行反向循环，同时进行放空和导淋，以免产生气阻和导淋堵塞。
络和清洗后水冲洗，络和清洗后水冲洗的目的是冲出系统中残余的酸液和吸附在金属表面的残液，并将部分不溶物从系统中冲出来。
中和、钝化，通过络和清洗、漂洗后的金属表面处于较高活性状态,极容易产生浮锈。通过钝化的方法，使金属表面形成一层致密的保护膜，从而防止清洗系统产生浮锈。
人工清理检查，钝化结束后，排尽钝化液。对设备底部及死角部位进行人工清理，同时对可见部分进行直观检查，确定清洗效果，对拆装部分进行还原复位。
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