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微流控芯片的硅质材料加工工艺:是在硅材料的加工中,光刻(lithography)和湿法刻蚀(wetetching)技术是2种常规工艺。由于硅材料具有良好的光洁度和很成熟的加工工艺,主要用于加工微泵、微阀等液流驱动和控制器件,或者在
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特定设计芯片的批量生产也降低了其成本。Caliper的旗舰产品是LabChip3000新药研发系统,其微流体成分分析可以达到10万个样品,还有用于高通量基因和蛋白分析的LabChip90电泳系统。据Caliper宣称,75%的主要
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微流控芯片的未来发展与公司技术储备:面对微流控技术向集成化、智能化发展的趋势,公司持续投入三维多层流道加工、芯片与微纳传感器/执行器的异质集成,以及生物相容性材料创新。在技术储备方面,已突破10μm以下尺度的纳米流道加工(结合电子
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玻璃基微流控芯片的精密刻蚀与键合工艺:玻璃因其高透光性、化学稳定性及表面平整性,成为光学检测类微流控芯片的理想材料。公司采用湿法刻蚀与干法刻蚀结合工艺,在玻璃基板上实现1-200μm深度的微流道加工,配合双面光刻对准技术,确保流道
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单分子检测用PDMS芯片的超净加工与表面修饰:单分子检测对芯片表面洁净度与非特异性吸附控制要求极高,公司建立了万级洁净车间环境下的PDMS芯片超净加工流程。从硅模清洗(采用氧等离子体处理去除有机残留)到PDMS预聚体真空脱气(真空