在执行晶圆的前、后段工艺过程时,晶圆需要经过无数次的IC清洁剂清洗步骤,其次数取决于晶圆的设计和互连的层数。此外,由于清洗工艺过程要剥离晶圆表面的光刻胶,同时还必须去除复杂的腐蚀残余物质,金属颗粒以及其他污染物等,所以清洗过程是及其复杂的过程。清洗介质的选择从湿法清洗的实践中,越来越多出现难于解决的问题时,迫使科技人员探索和寻找替代的技术,除了如增加超声频率(采用MHz技术)等补救方法之外,选择的途径就是选择气相清洗技术来替代(热氧化法、等离子清洗法等)。
在我们会用到IC除锈剂,那么大家是否了解使用IC除锈剂时需要注意什么?下面为大家详细介绍:为了更好的除锈效果,如果,被处理的工件表面腐蚀严重,首先要用钢刷或其他机械方法去除腐蚀严重的部分,然后用IC除锈剂处理。处理中的材料表面如果有油层,则需要用除油剂去除油污后,再用IC除锈剂进行除锈处理。处理之后的金属工件表面附着了钝化膜或者磷化膜(致密氧化层),厚度约为1微米、可防止工件被二次腐蚀,可以有效地切断空气和工件基体之间的接触。
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