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温度对各种ITO蚀刻液速率的影响:1.碱性氯化铜蚀刻液。蚀刻速率与温度有很大关系,蚀刻速率随着温度的升高而加快。蚀刻液温度低于40℃,蚀刻速率很慢,而蚀刻速率过慢会增大侧蚀量,影响蚀刻质量;温度高于60℃,蚀刻速率明显增大,但NH

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市场上销售的显影液多是浓缩型液体,使用时需要按比例稀释,显影液的浓度多以显影液的稀释比来表示。ITO显影液的浓度是指显影剂的相对含量,即NaOH、Na2SiO3总含量。在其他条件不变的前提下,显影速度与显影液浓度成正比关系,即显影

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ITO显影剂的两液显液:两液显影主要作用是用于加强阴影部分的影纹,减低高影调部分的密度。曝光时,阴影部分须比正常提高一个区。如果胶片容易发灰,在溶液B中加入少量的10%溴化钾溶液。底片上的高密度部分的厚度,主要依靠A溶液显影时间的

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影响ITO碱性氯化铜蚀刻液蚀刻速率的因素:溶液pH值的影响。蚀刻液的pH值应保持在8.0~8.8之间,当pH值降到8.0以下时,一方面对金属抗蚀层不利;另一方面,蚀刻液中的铜不能被完全络合成铜氨络离子,溶液要出现沉淀,并在槽底形成

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ITO导电玻璃制造工艺:(1)电化学扩散工艺:在玻璃上用电化学扩散方法可获得掺杂超导薄膜。玻璃在电化学处理装置中与熔融金属或化合物接触,在一定的电场作用下,熔融金属或化合物中的离子会扩散到玻璃表面,玻璃中的一价碱金属离子离解处来,

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